Газообразный моносилан подается на очистку в куб через барботажное устройство под слой жидкого моносилана, а затем попадает в ректификационную секцию колонны. Для обеспечения оптимальных условий массообмена в секции дополнительно часть паров поступает из испарителя.
Оптимальный перепад давлений в колонне поддерживается регулированием расхода жидкого моносилана, поступающего из куба испарителя через регулирующий клапан. Испарение жидкого моносилана, осуществляется за счет подогрева с помощью электронагревателя. После очистки моносилан направляют на получение поликристаллического кремния термическим разложением.
Содержание примесей в очищенном моносилане ниже предела обнаружения химико-спектральным, хроматографическим и другими известными методами.
Получение полупроводникового кремния из три - и тетрахлорсиланов.
Производство полупроводникового кремния представляет собой сложную химико-технологическую систему(ХТС), имеющую большое количество связей, элементов и подсистем. Упрощенная ХТС производства полупроводникового кремния показана на рис. ХТС состоит из следующих стадий: получения хлорсиланов 1-10, очистки хлорсиланов 11-14, получения поликристаллического кремния методом водородного восстановления хлорсиланов 15-18, выращивания монокристаллического кремния 19-22.
Периодическая система элементов Менделеева
Периодический
закон и Периодическая система химических элементов Д. И. Менделеева – основа
современной химии. Они относятся к таким научным закономерностям, которые
отражают явления, реальн ...
Реакции замещения гидроксильной группы
...
Расчет насадочной ректификационной колонны непрерывного действия по разделению смеси хлороформ-бензол
Задание на проектирование по теме «ректификация»
Разделяемая смесь
...