Зависимости DL от L для метода однократного модифицирования поверхности и для итеративного метода (N = 1024). [19]
Алюминий
АЛЮМИНИЙ (лат. Aluminium; от "alumen" —
квасцы), Al, химический элемент III группы периодической системы, атомный номер
13, атомная масса 26,98154.
...
Вода в химической промышленности
...
Эпитаксиальный рост Ge на поверхности Si(100)
С физикой
тонких пленок связаны достижения и перспективы дальнейшего развития
микроэлектроники, оптики, приборостроения и других отраслей новой техники.
Успехи микроминиатюризации электронн ...