Приложение 5

Зависимости DL от L для метода однократного модифицирования поверхности и для итеративного метода (N = 1024). [19]

Смотрите также

Алюминий
АЛЮМИНИЙ (лат. Aluminium; от "alumen" — квасцы), Al, химический элемент III группы периодической системы, атомный номер 13, атомная масса 26,98154. ...

Вода в химической промышленности
...

Эпитаксиальный рост Ge на поверхности Si(100)
С физикой тонких пленок связаны достижения и перспективы дальнейшего развития микроэлектроники, оптики, приборостроения и других отраслей новой техники. Успехи микроминиатюризации электронн ...